半导体的抗光腐蚀稳定性已成为光电化学水分解的重要目标之一。近日,内蒙古大学王蕾教授和苏毅国教授、河南科技大学王赵武讲师(共同通讯作者)等人报道了他们对WO3/BiVO4异质结、W掺杂和氧空位形成的三种混合增强策略的研究,以便在制备BiVO4的过程中结合到这种纳米结构中,从而改善光电化学(PEC)性能。研究发现,WO3层不仅促进了电子转移,而且它被用作W掺杂的扩散源,从而在块体材料上产生氧空位(Ov)。此外,通过引入不同的W掺杂剖面,即底部、中间和顶部,所有电极都表现出光激活特性,光电流得到改善,起始电位出现负偏移。其中,底部W掺杂使BiVO4电极上的电荷分离效率得到了最显著的提高,在前、后1个太阳光照射下,在1.23 VRHE处产生了接近4.4 mA cm-2的光电流密度。更重要的是,无助催化剂的W: BiVO4-Ov光阳极在1.0 VRHE下的25 h试验中呈现出良好的稳定性。通过实验和理论计算结合,证明了多种协作策略有助于设计高效稳定的太阳能转换光电极。Tungsten Induced Defects Control on BiVO4 Photoanodes for Enhanced Solar Water Splitting Performance and Photocorrosion Resistance. Appl. Catal. B Environ., 2021, DOI: 10.1016/j.apcatb.2021.120610.https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2021.120610.