上硅所/华东师大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生产二氢异喹啉和H2O2

上硅所/华东师大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生产二氢异喹啉和H2O2

光合作用是生产过氧化氢(H2O2)的最可持续和最有前景的方法之一,但光合作用存在载体利用率和H2O2产率低的问题。添加异丙醇或乙醇等质子供体可增加H2O2产量,但是将不可避免地提高成本,同时浪费空穴(h+)的氧化能力。

基于此,中科院上海硅酸盐研究所施剑林院士和华东师范大学陈立松副教授(共同通讯作者)等人报道了将四氢异喹啉(THIQs)被用作独特的质子供体,用于热力学上可行的选择性半脱氢反应,生成高价值的二氢异喹啉(DHIQs),同时在双功能Zn3In2S6催化剂的光催化下,在一个光氧化反应中耦合并促进H2O2的生成。适当缺陷的Zn3In2S6在可见光(λ≥400nm)下分别以66.4和62.1mmol h-1 g-1的高速率提供了卓越且接近化学计量的H2O2和DHIQs共生产性能。

上硅所/华东师大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生产二氢异喹啉和H2O2

由于O2在催化剂表面的吸附和活化是ORR和THIQs半脱氢反应的初始和最重要的步骤,作者利用密度泛函理论(DFT)计算了ORR作为光催化剂和活性中间体的吉布斯自由能。H2O2(ΔG4)的解吸是整个ORR(*+O2→*O2→*OOH→*HOOH→H2O2+*)中的一个速率决定步骤,因为其需要克服上坡的能量势垒。假设缺陷Zn3In2S6上的In原子为活性位点,则ΔG4的能垒为+0.41 eV,远低于样品中Zn和S原子的能垒,而Zn3In2S6中In原子的能垒为+0.41 eV,表明S缺陷在热力学上有利于In位点上的ORR。

上硅所/华东师大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生产二氢异喹啉和H2O2

由于In位点的ΔG1值较低,O2更容易吸附在In位点,导致In位点是反应中心富集在热力学上最可行的位置,因此In位点被认为是活性位点。作者还提出了Zn3In2S6催化THIQs半脱氢为DHIQs与光催化H2O2生成并行的表面反应机理:

1)在能量高于Zn3In2S6带隙的入射光下,在Zn3In2S6中产生e和h+

2)CB中光生成的e会迅速活化并还原In原位吸附的氧生成·O2,而VB中的h+则转移到光催化剂表面,从THIQs中的N原子上捕获一个电子生成自由基阳离子中间体,然后被ROS攻击形成α-H自由基阳离子中间体(b),再经过α-H去除形成自由基阴离子中间体(c);

3)在溶液中ROS和H+的同步作用下,由自由基阴离子中间体(c)进一步释放一个质子(H+)和一个电子,得到DHIQs(d)。

上硅所/华东师大AM:缺陷Zn3In2S6光催化生产二氢异喹啉和H2O2

Photoredox-promoted co-production of dihydroisoquinoline and H2O2 over defective Zn3In2S6. Adv. Mater., 2023, DOI: 10.1002/adma.202210110.

https://doi.org/10.1002/adma.202210110.

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