南洋理工大学李述周/范红金AM:理性掺杂,掺出活性与稳定性!

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成果介绍

硫氧化钼(MoSxOy)具有类似氧化钼中高活性的Mo-oxo以及金属性质,比传统的二硫化钼的析氢反应(HER)活性更高。然而,含氧钼化合物在非晶化过程中形成钼酸,它在水溶液中具有很高的溶解度,导致其稳定性发生明显下降。

南洋理工大学范红金、李述周等人报道了通过调整局部电荷转移路径来合成一种高度稳定、高活性的非晶MoSxOy的HER催化剂。结果表明,共掺杂的Sn和Rh原子分别与结构八面体[MoSO5]中的顶端O原子和顶端S原子结合。实验和计算结果表明,电负性差引起了Mo、O、Sn、Rh和S之间的电荷转移,强烈影响了酸性水溶液中HER的稳定性和活性。具体来说,电子供体Sn与H结合,钝化了顶端的O位点,大幅提高了电化学稳定性。
此外,Rh本质上是一种极好的HER电催化剂。在实验中,Rh原子的加入调节了Sn、Rh和顶端S之间的电荷平衡过程,从而使活性位点转移到顶端Rh位点。因此,非晶MoSxOy的活性也得到了改善,甚至超过了商业Pt/C,例如,η10为26 mV,Tafel斜率为30.8 mV dec-1。结果表明,Rh和Sn修饰的非晶MoSxOy对HER活性的稳定性大大提高,在1000次循环后,η10仅增加12 mV。这项工作提供了一种新的策略来推动MoSxOy催化剂的应用,更普遍地说,它为其他水溶液不稳定的非晶催化剂的研究提供了参考。
相关工作以《Electronegativity Induced Charge Balancing to Boost Stability and Activity of Amorphous Electrocatalyst》为题在《Advanced Materials》上发表论文。
另外,关于南洋理工大学范红金老师的介绍,可阅读:跨界歌王!才高八斗,Science和诗词两不误,“科研界的刘欢”——南洋理工范红金教授

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图文介绍

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图1. 非晶RhSn-MoSxOy的结构和结晶度
所得的MoSxOy和Rh/Sn共掺的材料(Rh/Sn-MoSxOy)形貌呈迷宫状,由平均尺寸小于5 nm的纳米岛组成,这些分散的纳米岛具有较大的比表面积,可达836 m2 g-1。MoSxOy和RhSn-MoSxOy的非晶态特征可以通过FFT来确定。随着热解温度的升高,MoSxOy的结晶度也随之提高。结晶度的变化也可以通过差示扫描量热法来定量分析,当热解温度从500℃升高到700℃时,MoSxOy的结晶度逐渐从0增加到25.2%。进一步,作者选择在500℃热解的非晶MoSxOy中加入金属杂原子。引入Rh和Sn后,元素映射显示所有元素分布均匀,且氧含量远远大于硫。

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图2. 原子结构识别与电荷转移过程
进一步,作者探究了非晶态Sn-MoSxOy的物相结构。如图2a所示,O 1s的XPS图谱表明Mo-O键在所有样品中存在。EXAFS结果表明,与对照样品Rh-MoSxOy和Sn-MoSxOy相比,RhSn-MoSxOy在1.8 Å处的峰表示Rh与S结合,而非与O结合;且RhSn-MoSxOy 2.5 Å处的峰值与Rh箔和Rh- MoSxOy相比发生了位移。这表明,在RhSn-MoSxOy中相邻的金属原子壳层发生了变化,进而证明Rh-Sn键的存在。
为对于Sn的配位环境,如图2c所示,RhSn-MoSxOy在1.6 Å处的峰属于Sn-O散射,表明存在Sn-O键,而非Sn-S键。小波变换(WT)结果表明,样品Rh-MoSxOy中可以观察到Rh-Rh配位的WT最大值在9 Å-1处,而在RhSn-MoSxOy中可以观察到Rh-Sn配位的强度最大值在7 Å-1处;Sn-MoSxOy的WT图交叉检验了Sn-Rh键的形成,其最大强度在~7 Å-1处。根据上述结果以及DFT计算的结构优化,可以得出Rh-MoSxOy、Sn-MoSxOy和RhSn-MoSxOy的局部构型如图2h所示。

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图3. 不同非晶MoSxOy的电化学析氢反应性能
为了评价催化剂的HER催化性能,在相同实验条件下,采用RDE测量了非晶MoSxOy、Rh-MoSxOy、Sn-MoSxOy、RhSn-MoSxOy和Pt/C的电催化性能。如图3a所示,纯MoSxOy和Rh-MoSxOy具有相似的HER性能,优于Sn-MoSxOy。而共掺杂的RhSn-MoSxOy在电流密度为10 mA cm-2时,过电位(η10)仅为26 mV。这些结果表明,Rh和Sn之间的协同作用导致了HER活性的增强。
对于反应机理,RhSn-MoSxOy样品的Tafel斜率为30.8 mV dec-1,遵循Volmer-Tafel反应机理,氢解吸过程为速率决定步骤。相反,没有Rh-Sn键的催化剂(Rh-MoSxOy、Sn-MoSxOy和MoSxOy)的Tafel斜率大于70 mV dec-1,表明其活性位点与氢的相互作用较弱。因此,RhSn-MoSxOy有效地加强了氢与活性位点的键合,促进了氢的吸附过程。此外,图3c中RhSn-MoSxOy比Sn-MoSxOy具有更高的双层电容(Cdl),说明RhSn-MoSxOy中有更高效的活性位点。
此外,电化学阻抗谱显示RhSn-MoSxOy的电荷转移电阻(Rct)比Sn-MoSxOy低。这表明,Rh-Sn键的存在促进了电解质中活性位点与质子之间的电荷转移。综上所述,与大多数其他TMDs HER催化剂、Pt/C催化剂相比,RhSn-MoSxOy具有高的HER活性,这可归因于Rh-Sn键对HER活性的巨大贡献。

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图4. 稳定性测试与DFT计算
除催化活性外,电化学稳定性是另一个重要的描述指标。在1000圈CV循环后,RhSn-MoSxOy催化剂的η10仅出现12 mV的负位移,在所有对照样品中是最低的。这也可以用DFT计算来加以验证。DFT计算结果表明,MoOx中Mo-顶端O键导致了顶端O原子上发生H的强吸附,这是MoOx在水溶液中具有高溶解度的主要原因。因此,保护顶端O位点不受H在水溶液中的腐蚀决定了MoSxOy的电化学稳定性。Sn作为电子给体,与顶端O结合,并通过提供电子来钝化顶端O的氢化反应。其结果是增强了Mo-O键,阻止了顶端O被H攻击。这解释了观察到的Sn掺杂样品(RhSn-MoSxOy和Sn-MoSxOy)确实比原始MoSxOy和Rh-MoSxOy更稳定。

此外,根据DFT计算,可以看出,RhSn-MoSxOy的稳定性和催化活性的提高可能是由于Sn和Rh掺杂具有不同的电负性而产生的协同效应。在稳定效应方面,Sn失去电子,这些电子部分积聚在顶端O上,产生顶端O与H之间的静电斥力,从而阻止H对顶端O的攻击。而Rh对顶端O的电子分布影响不大,但通过Rh-Sn键合与Sn发生电子相互作用,将H吸附位点转移至Rh位点上。这个转移途径改变了Rh周围的电荷分布,并提高了ΔGH值。因此,Rh和Sn共掺杂对于提高MoSxOy的HER性能是必不可少的。

文献信息

Electronegativity Induced Charge Balancing to Boost Stability and Activity of Amorphous Electrocatalyst,Advanced Materials,2021.

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/abs/10.1002/adma.202100537

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